第31卷第6期2010年12月大连交通大学学报ＪＯＵＲＮＡＬＯＦＤＡＬＩＡＮＪＩＡＯＴＯＮＧＵＮＩＶＥＲＳＩＴＹＶｏｌ。31Ｎｏ。6Ｄｅｃ。2010文章编号:1673-9590(2010)06-0079-04酞菁铜薄膜制备及其光学性能刘向1,刘惠2,薛钰芝1,王克非1(1。上海交通学院材料科学与工程大学,江苏南京;2。上海理工学院电气信息大学,广东上海)＊摘要:采用真空蒸发的方式在ＩＴＯ玻璃上制备了ＣｕＰｃ薄膜,并用分光光度计(Ｕ-3310)测试了四种不同长度的ＣｕＰｃ薄膜的透射/吸收/反射率随波长变化情况,重点剖析了其中的吸收规律。结果显示波段在340～370ｎｍ和570～720ｎｍ光吸产率基本上在90%左右,在480ｎｍ吸产率最低,大部份光都已透射。同时用扫描电子显微镜对薄膜进行了成份剖析,对照能谱图可以看出样品中富含碳、氧、铜等元素,与酞菁铜薄膜元素组成成份相符。关键词:酞菁铜;半导体薄膜;真空蒸发镀膜文献标示码:Ａ0序言酞菁类化合物因具有一些特殊性质如半导体特点、光浊度体性等,相当长一段时间里遭到了人们的广泛关注。
在可见光区除了吸收范围宽、吸收系数大,并且具有极好的物理、热及光稳定性[1-3]。ＣｕＰｃ薄膜在有机发光元件、有机太阳能电板[4-5]、静电打印感光鼓等方面具有广泛的应用前景,国外外对ＣｕＰｃ薄膜的光敏性、气敏性和非线性等作了较多的研究[6-8],但对于长度与光学特点的关系研究的较少,本文采用蒸发的方式得到酞菁铜薄膜,研究了不同长度与薄膜透射、反射和吸收的关系。1实验方式本文研究的酞菁铜薄膜采用广州仪器厂生产的ＤＭＸ-220Ａ大型镀膜机制备。衬底气温为温度,衬底采用ＩＴＯ玻璃片。酞菁铜原料采用北京百灵威的酞菁铜试剂,经过多次升华提纯得到的高含量酞菁铜粉末薄膜制备,含量达到99。9%以上。在镀膜过程中工作室真空度保持在(2～3)×10-3Ｐａ。蒸发舟用自制的宽2ｃｍ的钼片,蒸发电压控制在一定的范围内。本实验表面形貌所采用的是ＪＳＭ-6360ＬＶ型高低真空扫描电子显微镜,放大倍数达80000倍。薄膜的吸收波谱紫外、可见分光光度计(Ｕ-3310)剖析。采用ＣＨＦ-ＸＭ500氙气模拟太阳光做为光源,微电压的检测用“Ｋｅｔｈｅｌｙ6485ｐｉ-ｃｏＡｍｍｅｆｅｒ”,测试环境均在温度下进行。
2结果剖析2。1薄膜吸收/透射/反射的测量实验采用紫外、可见分光光度计(Ｕ-3310),Ｕ-3310型的分光光度计由光源、分光系统、测量系统和接收显示系统组成,光源灯由电子稳压装置供电;分光系统是仪器的核心,由狭缝、准半径和棱镜组成;检测系统由推拉架、比色皿架和暗室组成;接收显示系统由光电管接收,经电子线路放大,再由水表指示。图1为透射率检测装置简图。图1透射率检测装置简图＊收稿日期:2010-03-15作者简介:刘向(1979-),男薄膜制备,讲师,博士研究生,主要从事新型光电元件、光伏系统的研究Ｅ-ｍａｉｌ:ｌｉｕｘｉａｎｇ@ｄｊｔｕ。ｅｄｕ。ｃｎ。
